铜铝复合材连接铜排 镀锡铜铝复合排
铜铝复合排能有效解决铜铝易氧化且氧化膜难以消除以及铜铝之间在较低温度易产生金属间化合物(Al₂Cu)的铜铝复合问题。我司采用的铜铝复合排铜铝之间过渡层厚度可达到1~2μm,远低于传统铜包铝排,能实现铜铝间的冶金结合,又能有效保证铜铝间的结合强度,解决了过渡层的电阻率偏高问题。综合性能优良,在折弯、钻孔、冲孔等性能方面与纯铜材质相差甚微,对比铜材质,铜铝复合排不仅密度小,还能节约30%以上的成本。
铜铝复合排能有效解决铜铝易氧化且氧化膜难以消除以及铜铝之间在较低温度易产生金属间化合物(Al₂Cu)的铜铝复合问题。我司采用的铜铝复合排铜铝之间过渡层厚度可达到1~2μm,远低于传统铜包铝排,能实现铜铝间的冶金结合,又能有效保证铜铝间的结合强度,解决了过渡层的电阻率偏高问题。综合性能优良,在折弯、钻孔、冲孔等性能方面与纯铜材质相差甚微,对比铜材质,铜铝复合排不仅密度小,还能节约30%以上的成本。
厚度3.0~15.0mm,宽度≤500mm
铜铝复合排能有效解决铜铝易氧化且氧化膜难以消除以及铜铝之间在较低温度易产生金属间化合物(Al₂Cu)的铜铝复合问题。我司采用的铜铝复合排铜铝之间过渡层厚度可达到1~2μm,远低于传统铜包铝排,能实现铜铝间的冶金结合,又能有效保证铜铝间的结合强度,解决了过渡层的电阻率偏高问题。综合性能优良,在折弯、钻孔、冲孔等性能方面与纯铜材质相差甚微,对比铜材质,铜铝复合排不仅密度小,还能节约30%以上的成本。
复合强度:≥12N/mm;复合率:100%;剪切强度:≥35MPa
抗拉强度:90~150MPa;延伸率:0~35%
直流电阻率:≤0.0245Ω · mm²/m
表面导电率:≥98%
额度电流温升:≤65℃
导电行业(可广泛应用于高低压配电柜、成套开关、母线槽、电解槽、电池PACK模组等)。